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エキシマUV照射ユニット MEUTW

(株)エム・ディ・エキシマ

最終更新日:2015/06/03

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  • エキシマUV照射ユニット MEUTW
照度の均一性に優れるRF放電方式を採用
【MEUTW】は、半導体ウエハ、フォトマスク基板を対象としたエキシマUV照射ユニット。独自電源技術によりランプシステムに高効率な照射が可能。照度の均一性に優れるRF放電方式を採用し、ランプごとに制御が可能。ダメージレスで、精密な処理に最適。波長：172nm、照射有効エリア：φ150／200／300mm、均一性：±20％以内。
    　　　　　　　　

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企業基本情報

社名：
(株)エム・ディ・エキシマ
住所：
〒 224-0029
横浜市都筑区南山田3-6-33
Web：
http://www.mdexcimer.com