イオンビームスパッタリング装置
最終更新日:2015/10/22
このページを印刷用途に合わせた装置で構成、提案
本装置はイオンソースを使用し、成膜材料をイオンビームでスパッタして成膜するイオンビームスパッタリング(IBS)装置。基板はシングルステージまたはプラネタリーステージに搭載。研究開発や生産用として、ユーザーの用途に合わせた装置の構成・提案を行う。オプションでプラネタリーステージ、膜厚計、光学モニター、水晶膜厚計、全自動多層薄膜成膜ソフトウェア、膜設計支援可能を用意。
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製品カタログ・資料
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