タッチパネル用透明導電膜製造装置

本装置は、低温およびプラズマフリーの成膜を実現したタッチパネル用透明導電膜製造装置。スパッタ部と成膜部を独立させ制御してプラズマをターゲット間で生成・保持し、基板表面への粒子の衝撃を大幅に抑制したことで緻密な膜構造が得られ、100℃以下の低温、低抵抗のITO成膜と膜厚150nm（ナノは10億分の1）を実現。これにより、熱に弱い樹脂、プラスティックフィルム基板が使用可能となった。今後、需要拡大が予想させれるスマートフォン、タブレットPCなどのタッチパネルへの採用が、期待される。また、次世代ディスプレイ有機EL、モバイルのフレキシブル配線、反射防止膜にも応用できる。