Semilab製 原子間力顕微鏡 AFM-2100/2200/3000
最終更新日:2025/11/27
このページを印刷最大300mm半導体ウェーハの品質管理において、再現性の高いラフネス特性評価を実現
本製品は、最先端の欠陥識別手法のコンビネーションファクトリーオートメーション向けに開発れた原子間力顕微鏡AFM。極めて低いノイズレベルで、高解像度かつ原子レベル以下の精密測定を実現。これにより、Siおよび各種化合物ウェーハの品質管理において、一貫性と再現性の高い表面荒さ評価が可能となりる。自動化されたSemilab AFMポートフォリオは、原子間力顕微鏡の高解像度3D表面プロファイリング技術に基づき、マイクロおよびナノトポロジー測定における業界標準を満たしている。最先端技術と長年にわたるノウハウを融合、幅広くカスタマイズ可能でユーザーフレンドリーな環境において、安定した高精度なパフォーマンスを発揮し、サンプル表面の詳細な3D情報と正確な欠陥位置特定を実現する。
仕様
| 型番 | AFM-2100/ AFM-2200/ AFM-3000 |
|---|---|
製品カタログ・資料
- Semilab 製原子間力顕微鏡 AFM-2100/2200/3000
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会社情報

当社の検査装置は非接触・非破壊を基本とし、半導体ウェーハからデバイス検査装置まで幅広く対応しています。
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電話 : 045-620-7960
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