製品ナビは、工業製品からエレクトロニクス、IT製品まで、探している製品が見つかります
すべてのカテゴリー
  1. トップ
  2. 企業情報
  3. 日本セミラボ株式会社
  4. 製品
  5. 全自動分光エリプソメーター μSE-2300

全自動分光エリプソメーター μSE-2300

日本セミラボ株式会社

最終更新日:2026/06/18

このページを印刷
  • 全自動分光エリプソメーター μSE-2300
200mm量産・微小スポット対応
【μSE-2300】は、200mmウェハ対応、パターン付きウェハーアプリケーション向けのマイクロスポット分光エリプソメーター。成膜プロセスにおいて、薄膜や多層膜の膜厚値および屈折率分布(屈折率、消衰係数)を高精度に評価する。回転補償子型分光エリプソメーターで、紫外領域から近赤外領域までの広い波長領域による測定により、高測定かつ高精度な測定を実現。半導体プロセスにおいて、薄膜、多層膜、エピタキシャル層などの薄膜評価に使用可能。ウェハの応力測定(ストレス測定)およびBow. Warp測定(反り測定)にも対応している。
    　　　　　　　　
  • 製品カタログ
  • お問い合わせ
  • この企業の情報を見る

  • 製品のサイトへ

その他の情報

    ・DUV～可視対応エリプソメーターを標準構成で実現
    ・回転補償子型エリプソメーターによる高精度測定
    ・膜厚値、屈折率、消衰係数測定
    ・波長範囲：193～900nm
    ・測定可能ボックスサイズ：50µm
    ・全自動特性評価
    ・使いやすいSAMソフトウェア、SEMI®規格（E95-0200）に準拠
    ・小型スポット用に特別設計された光学系
    ・CognexPatmax®パターン認識
    ・高精度自動XYZマッピングステージ
    ・高速自動フォーカスモジュール
    ・光学プリアライナー

製品カタログ・資料

全自動分光エリプソメーター　μSE-2300
全自動分光エリプソメーター　μSE-2300

ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.52MB

会社情報

日本セミラボ株式会社

当社の検査装置は非接触・非破壊を基本とし、半導体ウェーハからデバイス検査装置まで幅広く対応しています。
研究開発を加速させる先進的ソリューションから、製造プロセスを支える信頼性の高い検査装置まで、ご提供する事が可能です。

日本セミラボ株式会社
〒 222-0033  横浜市港北区新横浜2-15-10 YS新横浜ビル6F
電話 : 045-620-7960

https://www.semilab-j.jp/
詳細はこちら

製品ご紹介

全自動分光エリプソメーター μSE-2300のお問い合わせ

お問い合わせはこちら
企業ロゴ
PDF情報をもっと見る>>
ニュースリリース情報をもっと見る>>
最新展示会情報をもっと見る>>

企業基本情報

社名：
日本セミラボ株式会社
住所：
〒 222-0033
横浜市港北区新横浜2-15-10 YS新横浜ビル6F
Web：
https://www.semilab-j.jp/
TEL：
045-620-7960

おすすめ情報

  • ≪分光エリプソメーター SE-1000≫

    【SE-1000】は、モジュール性と高い測定性能を卓上型のコンパクト設計で実現する分光エリプソメーター。回転補償子法により高い測定性能を提供。コスト効率に優れ、研究開発ラボに適した手動のゴニオメーターと手動のサンプル位置決め機能を搭載。非接触・非破壊の光学的測定を基板や単層/多層サンプルで行い、個々の薄膜の膜厚や光学特性(屈折率、消衰係数)を取得。コンポーネントを交換可能なセミラボの新型高性能電子機器が搭載し、新世代の動作・分析ソフトウェア(SAM/SEA)で動作する。

  • ≪回転補償子型分光エリプソメーター SE-2000≫

    【SE-2000】は、半導体・太陽電池・液晶パネル・LED・有機ELなど薄膜の膜厚と光学特性(屈折率、消衰係数)を評価する装置。拡張性が高く、長年の経験による解析ノウハウと豊富なデータベースにより、研究開発からインライン生産品質管理など、さまざまな用途で使用できる。対応波長範囲:250～990nm、深紫外(193nm～)、近赤外(～1690nm)。全波長領域において、数秒で測定が行える。オプションでIR(～25μm)、ラマン分光、、シート抵抗測定、細孔率分布測定なども可能。マッピングステージも用意している。