蛍光X線式測定器 XDV-μ WAFER

仕様

用途	■エレクトロニクス産業や半導体産業などのウェハーの測定(ウェハーサイズΦ300mmまで測定可能) ■薄膜コーティングの分析、0.1µm以下のAuやPd ■品質管理等における自動測定 ■多層膜コーティングの測定
寸法	680×900×690mm(幅×奥行×高さ)

その他の情報

測定元素範囲：Al(13)～U(92)
X線検出器：シリコンドリフト検出器(SDD)
X線管球：マイクロフォーカスチューブ
プライマリフィルター：4種類(切替式)
X線光学系：ポリキャピラリーレンズ(標準約Φ20µm)
ウェハーサイズ：6, 8, 12インチに対応
消費電力：最大120W

製品カタログ・資料

蛍光X線式測定器 XDV-μ WAFER

ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.61MB【XDV-μ WAFER】は、ポリキャピラリーレンズを搭載し、ウェハーの膜厚測定と素材分析を自動測定できるよう特別設計された高性能蛍光X線式測定装置。非常に小さな測定スポットにおいて大きな励起強度を得ることが可能。

会社情報

Helmut Fischerは70年にわたり、膜厚測定、素材分析、微小硬さ試験、材料試験の分野において革新的な測定技術を開発してきました。
製品ラインアップには、極めて多様な用途や産業向けの測定・分析機器を幅広くカバーし、それぞれの用途に応じて最適な測定方式を用いて精度の高い結果をもたらします。電磁式、渦電流式、ベータ線後方散乱式、電解式、微小硬さあるいは蛍光X線式などいずれの測定方式においても豊富な技術と経験を持ち、あらゆるソリューションを提供してきております

(株)フィッシャー・インストルメンツ
〒 340-0012 草加市神明1-9-16

https://www.helmutfischer.jp/

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