卓上型サーマル式 プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置

製品カタログ・資料

卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置

ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.81MBテーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。 プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度 低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き 試料ステージは直径200mm基板まで選択可能 450℃加熱ステージも選択可能 Arradiance GEMFlowソフトウェアは、 扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。 温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、 真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。 診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能 RGIP(Reactor Gas Injection Protocol)について ガスポート監視インターロック機能を備えています。 特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適 ・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単 ・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能 成膜材料 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど 詳細はお問い合わせください。 基板 4～8インチ、高さ約25mmまでの構造物 粉体、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能 チャンネル数 最多8種類のプレカーサ装備が可能 チャンバー温度 最高300℃(オプション450℃) オプション オゾン発生器、 リモートプラズマ装置、 紛体コーティング治具(量子ドットやナノパーティクルへコーティング)、 Load Lockもございます。 詳細はお問い合わせください。 (成膜サービス(有償)も実施しております。詳細はお問い合わせください。)