精密研磨装置 Orbis
最終更新日:2014/01/31
このページを印刷試作テストを行なう研究開発環境下に適したCMPツール
【Orbis】は、ウエハ加工工場や大規模生産おける試作テストを行なう研究開発環境下に適したクリーンルーム仕様のLogitech社製CMP(Chemical Mechanical Polishing)ツール。摩擦抵抗をリアルタイムでグラフ表示、記録していくため、適切な研磨レシピを簡単に作成できるほか、データ管理は1レイヤを6レシピを使用し、研磨、各工程のレシピ追加、変更が簡単に行える。データはエクセルで保存でき、汎用性に優れている。キャリアヘッドの張り付け面にバックレイヤーをかけることにより、わずかな凹凸の面を調整。スラリーのクリーニング、交換をプログラム制御できる。すべての操作をPC画面上で設定。WIWNU測定法で、面内5%以内の精度。最大ウエハサイズ直径200mm。
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