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多元スパッタ装置

株式会社テクノファイン

最終更新日:2017/04/04

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研究開発向けスパッタ装置

本製品は、3種類のターゲットが同時にセットでき、大気開放することなく、3種類の成膜が可能な多元スパッタ装置。基板ステージごとに個別の温度設定ができるため、成膜条件が異なる場合でも迅速な処理が可能。

産業用機械│半導体製造装置│

　　　　　　　　

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住所：: 〒 982-0243
仙台市太白区秋保町長袋字門前21

Web：: http://www.technofine.jp/

TEL：: 0223992360