コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置 CAP-1000
最終更新日:2014/02/01
このページを印刷新規金属系材料の探索効率を1000倍アップ
【CAP-1000】は、アーク放電で瞬時にターゲット材料をイオン化しパルス成膜するアークプラズマガン。120度等配のターゲット材A、B、Cを順次蒸着することにより1回のプロセスで、A、B、Cの混合比の異なる組成傾斜膜を基板上に成膜する。MEMSプロセスによりマトリックスの壁グリッドを設け、1000個程の組成比の違う薄膜ライブラリを作成できる。この薄膜ライブラリを分析・評価することにより最適な物性を有する新材料を超効率に探索することができる。新規金属系材料・アモルファス材料の迅速探索、レアアース代替材料の研究および探索、各種耐食性材料の研究開発、太陽電池用薄膜の組成最適化などの用途に好適。