高性能、コンパクト、低価格のパルスレーザーアブレション成膜装置
【PLD-2000】は、高性能・コンパクト・低価格のパルスレーザーアブレーション成膜装置である。SiC加熱回転機構を採用し、チャンバー構造は使いやすく自由度の多い設計となっている。レーザー光源は安定したYAGレーザーを採用している。主な特長は、
(1)SiCヒータを採用し、1000℃の高温加熱を実現
(2)10Pa〜超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能
(3)メンテナンスの容易なYAGレーザーを採用
(4)コンパクトながら自由度が多く高性能で低価格
(5)スパッタ、蒸着およびMBE装置へも拡張可能
(1)SiCヒータを採用し、1000℃の高温加熱を実現
(2)10Pa〜超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能
(3)メンテナンスの容易なYAGレーザーを採用
(4)コンパクトながら自由度が多く高性能で低価格
(5)スパッタ、蒸着およびMBE装置へも拡張可能