ナノインプリント装置 X-300
最終更新日:2014/02/01
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本格的なナノインプリント技術開発に最適
【X-300】は、φ6インチ、熱・UVどちらにも対応し、高い再現性を有したナノインプリント装置。R＆Dからパイロット生産まで対応。すべてのステージで、高品質、低コスト、高い設備生産性を追及。加工サイズ：口100mm(熱式φ150mm)、変位の最小分解能：50nm、加圧力：常用最大：50kN、金型平行度調整機構を標準搭載。レジスト加工は、モールド技術開発により15万ショット耐久性を確認。残膜5nm以下でコントロールが可能。フィルム加工は実用化ラインによる製品製造(細胞培養プレート)で、ナノからミクロンまで様々なパターン加工が可能。
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