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原子層成膜装置 ALCVD

有限会社フリーダム

最終更新日:2014/02/01

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  • 原子層成膜装置 ALCVD
原子層を1層ごとに成膜
【ALCVD】は、真空チャンバーでウェハを加熱、メタルオーガニックガスを導入し飽和表面反応を利用した原子層成膜CVDを行う装置である。通常の熱CVD装置としても使用可能。

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