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ALD（原子層堆積）装置 TFALD-201

株式会社テクノファイン

最終更新日:2018/06/22

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  • ALD（原子層堆積）装置 TFALD-201
研究開発用途向けALD装置
【TFALD-201】は、昇華原料に対応した研究開発用途向けALD(Atomic Layer Deposition)原子層堆積装置。複合金属酸化物および貴金属成膜に対応し、高アスペクト比の3次元構造に対してピンホールのない薄膜成膜が可能。6種類の原料・反応ガス供給ユニットを組み合わせることで、さまざまな成膜実験に対応するシステム構築が行える。
    　　　　　　　　

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