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ALD(原子層堆積)装置 TFALL-201

株式会社テクノファイン

最終更新日:2018/07/28

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  • ALD(原子層堆積)装置 TFALL-201
研究開発用途向けALD装置
【TFALD-201】は、昇華原料に対応した研究開発用途向けALD(Atomic Layer Deposition)原子層堆積装置。金属酸化物および貴金属成膜に対応し、高アスペクト比の3次元構造に対してピンホールのない薄膜成膜が可能。

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〒 982-0243
仙台市太白区秋保町長袋字門前21
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http://www.technofine.jp/
TEL:
0223992360