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イオン注入装置 IW-630

(株)アルバック

最終更新日:2015/11/17

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  • イオン注入装置 IW-630
注入の均一性が向上
【IW-630】は、バイポーラデバイスの独自要求、SOI、SOS、SiCなど次世代ウエハからの要求に対するアプリケーションに最適なイオン注入装置。注入の均一性のアップ、コンタミネーションの低減、アウトガスの影響からの回避、ウエハ冷却など優れた特性を具備。LDD注入やトレンチ側面注入のための大傾斜注入技術などが代表例。

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