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量産用インターバック式プラズマCVD装置

神港精機(株)

最終更新日:2014/02/01

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  • 量産用インターバック式プラズマCVD装置
15μmのSiO2膜を形成
本装置は、高周波励起によるプラズマ中で各種反応ガスを分解し、活性化して化学反応を起こさせることによって成膜する平行平板型プラズマCVD装置。ロードロック室と成膜室から構成の量産用で、適正な電極間距離、反応ガスの均一供給、放電電極の適正化と加熱処理によって15μmのSiO2膜が形成できる。電子部品の多量生産装置として最適。

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企業基本情報

社名:
神港精機(株)
住所:
〒 103-0022
中央区日本橋室町4-2-16楠和日本橋ビル2F
Web:
http://www.shinko-seiki.com/