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縦型バッチ式ウェハー酸化炉 Oxidator150

伯東株式会社

最終更新日:2014/02/01

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  • 縦型バッチ式ウェハー酸化炉 Oxidator150
パワー半導体(SiC)向け
【Oxidator150】は、(独)セントロサーム社のサーマル技術を適用した、シリコンカーバイド(SiC)の酸化プロセス向けに設計された高温酸化炉。1400℃までの高温加熱と様々な酸化ガス(O2、N2O、NO、NO2、WetOx)が使用でき、金属汚染もなく、かつ2重真空チューブを備えている。また、有毒ガス使用にも対応が可能。主な特長は、
(1)様々なウェハサイズの組合せによる一括処理が可能：2(inch)・3(inch)・100(mm)・150(mm)
(2)加速速度：〜7.5(K／分)
(3)ウェハー処理枚数：〜50枚／バッチ(150mmウェハー)
(4)プロセス圧：大気圧〜8.5×104(Pa)
    　　　　　　　　

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