コンパクトマグネトロンスパッタ Compact Sputter‐75S

製品カタログ・資料

コンパクトマグネトロンスパッタ Compact Sputter‐75S

ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.42MB【Compact Sputter‐75S】は、多目的の研究用RF、DCスパッタとして金属、金属酸化物、金属窒化物、高分子物質などの蒸着ができる。半導体、ディスプレイ、ソーラーセル、バイオチップ、新素材、ナノ材料、サンプルの準備などの用途に適用できる。設置空間をとらず、操作も容易で、値段も安価である。ターゲットとチャンバー窓のシャッター、チャンバーの内部にライナーも装着してある。反応性スパッタもできる。ターゲットのサイズは2インチまたは3インチの物が装着できる。制御はPLC基盤のタッチパネルで行い、基板の加熱は300度まで。重量は100kgである。