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製品カタログ・資料
- レジスト・パーティクルを同時に除去! 新型マスク洗浄装置 TWC-300
ファイル形式:pdf ファイルサイズ:1.58MB『TWC-300』は、マスクに付着したレジストとパーティクルを一挙に同時に除去することができる装置。 【特徴】 10,000,000円前後のマスク代を毎月削減 マスクは消耗品から永久使用へ 洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 高価なリムーバーや現像液なども不要 設置場所を取らない縦型コンパクト設計
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