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新型マスク洗浄装置 TWC-300

(株)テクノビジョン

最終更新日:2018/12/20

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  • 新型マスク洗浄装置 TWC-300
露光工程のコストを劇的に削減
【TWC-300】は、マスクに付着したレジストとパーティクルを一挙に同時に除去することができる装置。汚染の度合いに適した洗浄剤を使用することで時間、労力、経費の節約をはかり、洗浄効率の向上を実現。
    　　　　　　　　
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レジスト・パーティクルを同時に除去！　新型マスク洗浄装置 TWC-300
レジスト・パーティクルを同時に除去！　新型マスク洗浄装置 TWC-300

ファイル形式：pdf ファイルサイズ：1.58MB『TWC-300』は、マスクに付着したレジストとパーティクルを一挙に同時に除去することができる装置。 【特徴】 10,000,000円前後のマスク代を毎月削減 マスクは消耗品から永久使用へ 洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 高価なリムーバーや現像液なども不要 設置場所を取らない縦型コンパクト設計

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