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MEMSフォトレジスト薄膜コーティング試作&装置

株式会社エーシングテクノロジーズ 慶應藤沢研究所

最終更新日:2014/02/01

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  • MEMSフォトレジスト薄膜コーティング試作&装置
コーティング困難な凹凸複雑デバイスへ塗布可能
同社では、塗布困難なデバイスに対しフォトレジストをはじめ数々の機能膜、複合膜のコーティングを提案している。装置は凹凸の3D(立体)部品に極超薄膜コーティング(数nm)から薄膜(1μ)から厚膜(100μ)の膜形成に対応。薄膜事業では、ユーザーへの試作支援とコーター(特殊オーダーメイド薄膜コーティング装置・スプレーコーター)提案と技術コンサルタントを行っている。MEMS製造装置や特殊電子デバイスで多くの成膜実績を得ている。

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企業基本情報

社名:
株式会社エーシングテクノロジーズ 慶應藤沢研究所
住所:
〒 252-0816
藤沢市遠藤4489-105 慶應藤沢イノベーションビレッジ(SFC-IV) 105号室 & 213号室
Web:
http://www.acingtec.com/
TEL:
0463247740