MEMSフォトレジスト薄膜コーティング試作＆装置

最終更新日:2014/02/01

コーティング困難な凹凸複雑デバイスへ塗布可能

同社では、塗布困難なデバイスに対しフォトレジストをはじめ数々の機能膜、複合膜のコーティングを提案している。装置は凹凸の3D(立体)部品に極超薄膜コーティング(数nm)から薄膜(1μ)から厚膜(100μ)の膜形成に対応。薄膜事業では、ユーザーへの試作支援とコーター(特殊オーダーメイド薄膜コーティング装置・スプレーコーター)提案と技術コンサルタントを行っている。MEMS製造装置や特殊電子デバイスで多くの成膜実績を得ている。