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- 4 x 3インチガンUHVマルチスパッタ UHV Sputter‐50F
ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.31MB【UHV Sputter‐50F】は、UHVスパッタとして研究用に適当である(基底圧力：<6×10−9Torr)。高真空パンプとしてイオンパンプとターボパンプが採択されている。金属酸化物と金属はロードロッカーチャンバーにプレー蒸着もできるように設計されている。マスクローディングは自動的にできる。磁性材料と金属酸化物、金属の薄膜を蒸着する場合に最適である。
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